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中微公司 ICP 刻蚀设备 Primo nanova 第 100 台反应腔交付


IT之家 6 月 13 日消息 从中微公司获悉,6 月 9 日,中微半导体设备(上海)股份有限公司在上海总部举办电感耦合等离子体(ICP)刻蚀设备 Primo nanova 第 100 台反应腔交付客户庆祝仪式。

IT之家了解到,Primo nanova 是中微公司于 2018 年发布的第一代电感耦合等离子体刻蚀设备,采用了中微公司的电感耦合等离子体刻蚀技术。

中微公司表示,目前,Primo nanova 产品已成功进入海内外十余家客户的晶圆生产线,在逻辑芯片、DRAM 和 3D NAND 厂商的生产线上实现大规模量产。


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  • 2021-06-13
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