小细节EUV 光刻机是一项技术奇迹。一台发生器每秒喷射出 5 万个微小的熔锡液滴，高功率激光对每个液滴进行两次爆破，第一次可以使锡成形，第二次是使锡蒸发成等离子体。等离子体发出极紫外光辐射，这种辐射聚集成光束并通过一系列反射镜反射最终撞击晶圆。反射镜十分光滑，以至于即使扩大到德国国土面积的尺寸大小，其凹凸也不会超过 1 毫米。
EUV 光束撞击晶圆的精度很高（本身就是材料科学的奇迹），相当于一把从地球上发射的弓箭直接击中放在月球上的苹果。EUV 光刻机就是通过这样一系列操作，将晶体管拉入 5nm 的晶圆，5nm 大概相当于我们的指甲在 5 秒内长出的长度。
技术奇迹 EUV 光刻机的制造困局
一台 EUV 光刻机由 10 万多个零件组成，成本约为 1.2 亿美元，需要用 40 个货运集装箱装运。但就是这台价值 1.2 亿美元的机器，目前世界只有几十台，各国对其的需求量也远远超过供应量，且还有大约两年的未交货订单。
之所以数量少，是因为目前世界上只有荷兰的 ASML 公司能够制造 EUV 光刻机。ASML 是一家几乎只生产用于芯片制造光刻机的公司，尽管它的业务很局限，但该公司的市值却超过 1500 亿美元，远远高于 IBM 的市值，仅略低于特斯拉。
EUV 光刻技术自 1980 年以来一直在发展，直到最近两年才进入批量生产阶段。除了 ASML，其它公司（尼康、佳能等公司）只能生产不使用 EUV 技术且成本效益较低的老一代光刻机，这些公司所拥有的经验、专业知识以及市场定价权都来自于极端技术需求下竞争激烈的行业数十年的盈利能力。
如果这些公司能够制造 EUV 光刻机，那么他们将赚上数十亿美元。这也是为什么在经历了 30 多年和数十亿美元的研发投入后，ASML 能够获得如此多的订单：EUV 光刻机走在人类技术能力的前沿，制造难度大。
中国自研 EUV 光刻机的可能性
中国几乎没有光刻经验和光刻行业，任何试图开发 EUV 光刻机的中国公司都必须从头开始，不得不努力缩小与拥有数十亿美元资产、数十年经验以及经验和专业知识都颇为丰富的成千上万员工的 ASML 的差距，同时也不得不在那些经验丰富和拥有数亿美元的生产光刻机的公司曾经失败过的地方取得成功。
由此可见，在短期内，中国公司自主生产 EUV 光刻机的可能性很小。
中国意识到 EUV 光刻机的重要性，且在美国的压力下，荷兰政府于 2019 年 11 月阻止 ASML 将 EUV 光刻机运送到中国。相关新闻报道将 ASML 描述成中美贸易战的棋子，但荷兰的决定事关重大。
这是因为，有许多具有战略意义的技术都具有潜在的危险性或不确定性，包括人工智能、自主武器系统、高超音速导弹、网络武器、监视工具和最新一代核武器，这些技术以及其他技术都需要最新的芯片来开发和部署。如果让这些技术筹码远离中国政府或代表中国政府行事的人，可以在未来几十年里先发制人地保护人权和安全。
但如果缺乏先进的芯片，中国就不能参与技术权威主义或军备竞赛。
出口管制不应阻碍全球繁荣
中美两国之间的贸易往来促进彼此繁荣，但美国始终认为某些东西过于危险而无法自由贸易。过去四十年，中国的开放和中国社会的日益繁荣是上个世界最重要的发展之一，将近 10 亿人摆脱了贫困。美国及其盟国实施的任何出口管制都应该尽可能缩小范围，只针对破坏国际安全或人权的技术和用户。
可以通过 “两步走”出口控制计划来实现这一目标。首先，美国、荷兰和日本应对生产先进芯片所学的包括光刻机在内的制造设备实施严格的多边出口管制。这三个国家几乎垄断了先进的芯片制造设备，其技术壁垒与 EUV 光刻技术类似。有针对性的出口管制将 [BYG1] 继续促进彼此往来。
其次，美国、台湾和韩国这三个制造先进芯片的国家应该对芯片实行狭窄的多边出口管制。这些控制措施应针对特定的最终用户和最终用途（如监视），同时允许绝大多数中国公司进口用于商业用途的芯片。
EUV 光刻机不仅仅是技术奇迹，还提供了重要的发展路径。通过先进的计算机芯片技术，可以推动科学和工程领域前沿的发展，促进全球繁荣。若这些机器掌握在民主国家手中，可能在未来十年，都能够维持繁荣前进的步伐。
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