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英伟达有望明年上半年推出“安培”显卡:7nm工艺,更强的光线追踪

2019年10月05 15:57 100 0 复制链接

IT之家10月5日消息 根据外媒OC3D的报道,英伟达可能计划在2020年上半年推出下一代安培架构系列显卡,同时采用更先进的7nm工艺,光线追踪的性能预计也将会加强。

▲图自OC3D

据报道,英伟达将于2020年1H发布新一代的图形架构,除了7nm工艺之外,下一代图形架构流出的信息还很少。

外媒预计,7nm工艺安培显卡将使英伟达回到其传统的显卡发布节奏中,首先,他们将发布一款高端(但是不是顶级)的产品,很有可能是一款性能接近RTX 2080 Ti的显卡,但价格会更低,功耗也会下降。预计首批产品的型号将为RTX 3070/RTX 3080,然后第二批产品将会是RTX 3060和低端显卡。

外媒认为,安培架构有望带来架构改进,提高光线追踪性能,同时使用更新的节点工艺增加晶体管密度,提高显卡的每瓦性能,综合性能会超过AMD目前的RDNA架构。


本文由LinkNemo爬虫[Echo]采集自[https://www.ithome.com/0/448/723.htm]

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