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光刻机巨头 ASML 核心业务将留在荷兰，拟在埃因德霍芬大举投资
IT之家4月23日消息，荷兰光刻机制造商ASML与埃因德霍芬市政府签署了一份意向书，计划扩大在该市的业务规模。此举可能终结此前有关ASML将部分业务迁至海外的猜测。ASML表示，该公司与埃因德霍芬市达成了一项协议，计划在该市北部一片未开发区域进行大规模扩张，预计可容纳约2万名新员工。不过，公司代表MoniqueMols在接受彭博社采访时表示，最终决定将取决于一些“关键问题”。值得注意的是，荷兰政府
阅读更多Echo 2024.04.23 10:23 24浏览 0回复
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英特尔宣布世界首台商用 High NA EUV 光刻机完成组装，计划明年投入研发使用
感谢IT之家网友华南吴彦祖的线索投递！IT之家4月19日消息，英特尔今日宣布其已在位于美国俄勒冈州希尔斯伯勒的FabD1X研发晶圆厂完成世界首台商用HighNA（0.55NA）EUV光刻机的组装工作，目前已进入光学系统校准阶段。▲图源英特尔新闻稿这台光刻机型号TWINSCANEXE:5000，为ASML的首代HighNAEUV光刻机，价值约3.5亿美元（IT之家备注：当前约25.38亿元人民币）。
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阿斯麦向客户交付第二台 High NA EUV 光刻机，买家身份成谜
IT之家4月18日消息，荷兰半导体设备制造商阿斯麦（ASML）近日向一家未披露名称的公司交付了其第二台高数值孔径(NA)极紫外(EUV)光刻机。这台高端光刻机旨在制造比当前低NAEUV设备所能制造的更高密度的芯片。据路透社报道，第二台高端光刻机的出货意味着这一最新技术正逐渐被采用。然而，ASML对买家身份讳莫如深，只能猜测其身份，路透社指出英特尔、台积电和三星都是潜在客户。事实上，英特尔已经购买了
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阿斯麦 High-NA EUV 光刻机取得重大突破，成功印刷 10 纳米线宽图案
IT之家4月18日消息，荷兰阿斯麦(ASML)公司宣布，其首台采用0.55数值孔径(NA)投影光学系统的高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV)光刻机已经成功印刷出首批图案，这标志着ASML公司以及整个高数值孔径EUV光刻技术领域的一项重大里程碑。ASML公司在声明中表示：“我们位于埃因霍芬的高数值孔径EUV系统首次印刷出10纳米线宽（denseline）图案。此次成像是在光学系统、传感器和移
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ASML 新款 NXE:3800E EUV 光刻机引入部分 High-NA 机型技术，晶圆吞吐量提升近 22%
IT之家3月27日消息，据荷兰媒体Bits&Chips报道，ASML官方确认新款0.33NAEUV光刻机——NXE:3800E引入了部分High-NAEUV光刻机的技术，运行效率得以提升。根据IT之家之前报道，NXE:3800E光刻机已于本月完成安装，可实现195片晶圆的每小时吞吐量，相较以往机型的160片提升近22%。下一代光刻技术High-NA（高数值孔径）EUV采用了更宽的光锥，这意
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产业人士称尼康正向中国“头部”新能源汽车品牌供应光刻机设备
感谢IT之家网友lemon_meta、西窗旧事的线索投递！IT之家3月25日消息，第一财经今日发布了对尼康半导体装置事业部总经理森田真弘的采访。森田真弘在采访中反复多次提到中国是一个非常大的市场，并称中国客户每年都在增长。有产业人士称，尼康正在向中国头部新能源汽车品牌供应光刻机设备。产业人士对上述消息进行解释，“虽然我无法透露客户的名称，不过目前看来中国新能源汽车产业的快速发展刺激了对28nm制程
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ASML 首台新款 EUV 光刻机 Twinscan NXE:3800E 完成安装
IT之家3月13日消息，光刻机制造商ASML宣布其首台新款EUV光刻机TwinscanNXE:3800E已完成安装，新机型将带来更高的生产效率。▲ASML在X平台上的相关动态IT之家查询发现，ASML官网尚未上线TwinscanNXE:3800E的信息页面。除了正在研发的High-NAEUV光刻机TwinscanEXE系列，ASML也为其NXE系列传统数值孔径EUV光刻机持续更新升级，未来目标在2
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250 名工程师耗时 6 个月安装，英特尔展示 ASML 首台 High-NA EUV 光刻机交付过程
IT之家3月5日消息，英特尔携手ASML宣布高数值孔径HighNAEUV光刻机实现“初次曝光”里程碑后，近日再次分享了一段视频，展示了在英特尔位于美国俄勒冈州的D1X工厂内，ASML工程团队安装调试的部分画面。英特尔在视频中记录了第一台光刻扫描仪ASMLTwinscanEXE:5000的交付过程，从视频来看相关组件是通过空运从荷兰运到美国的，因此相比海运可以进一步缩短交货时间。ASML于今年2月展
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High-NA 光刻导致单芯片最大面积减半，imec、英特尔各想办法
IT之家2月29日消息，下一代光刻技术High-NA即将在未来数年中投入使用，但其目前面临单芯片最大面积减半的问题。为此英特尔和比利时半导体研究机构imec近日分别给出了解决思路。▲ High-NAEUV光刻机TWINSCANEXE:5000。图源ASML官网在目前的光刻中，单芯片极限面积（视场）为26*33=858mm2。根据IT之家的了解，为了实现更精确的光刻效果，High-NA光刻
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ASML 高数值孔径 High NA EUV 光刻机实现“初次曝光”，助英特尔开启工艺进化
感谢IT之家网友Diixx的线索投递！IT之家2月28日消息，英特尔技术开发负责人AnnKelleher在周二于圣何塞举行的SPIE光刻会议上提到他们已经在ASML新型高数值孔径(HighNA)EUV光刻机上实现了“初次曝光”里程碑，而ASML也进行了证实，并表示接下来将继续测试和调整该系统，使其能够发挥其全部性能。那么问题来了，“初次曝光”是什么意思呢？“初次曝光”即是指光刻系统首次成功将光线图
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消息称 SK 海力士今年将增 8 台 EUV 光刻机，推动 DRAM 内存产品技术演进
感谢IT之家网友西窗旧事的线索投递！IT之家2月27日消息，韩媒etnews近日报道称SK海力士将于今年引入8台EUV光刻机，推动DRAM内存产品的技术演进。SK海力士现有5台光刻机。到今年末，若加上韩媒报道中称的8台，其拥有的EUV光刻机总数将达13台，较年初翻倍有余，大幅提升EUV曝光能力。SK海力士于第四代10纳米级制程——1anm制程中首次引入EUV光刻，当时仅在1个步骤中使用；而来到目前
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ASML 价值 3.5 亿欧元的 High-NA EUV 光刻机已获得 10~20 个订单，预计到 2028 年可将年产量提高到 20 台
IT之家2月13日消息，荷兰半导体制造设备巨头ASML前天刚刚展示了其下一代高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV)光刻机，还透露其High-NATwinscanEXE光刻机的价格约为3.5亿欧元（IT之家备注：当前约27.16亿元人民币）。相比之下，现有的 EUV光刻机价格约为1.7亿欧元（当前约13.19亿元人民币），当然具体价格要取决于具体型号和配置。此外，ASML还告诉路透社
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ASML 展示价值 3.5 亿欧元的 High-NA EUV 光刻机，重达 15 万公斤
IT之家2月11日消息，全球芯片制造巨头ASML公司近日展示了其最新款芯片制造设备——High-NA极紫外(EUV)光刻机。这台价值3.5亿欧元（IT之家备注：当前约27.2亿元人民币）的庞然大物，重量相当于两架空客A320客机，被ASML公司宣称为芯片制造商参与人工智能热潮的“必备品”。该系统已获得英特尔公司的订单，首台机器已于去年年底运抵其位于俄勒冈州的D1X工厂，英特尔计划在2025年年底开
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ASML 展示价值 3.5 亿欧元的 High-NA EUV 光刻机，重达 15 万公斤
IT之家2月11日消息，全球芯片制造巨头ASML公司近日展示了其最新款芯片制造设备——High-NA极紫外(EUV)光刻机。这台价值3.5亿欧元（IT之家备注：当前约27.2亿元人民币）的庞然大物，重量相当于两架空客A320客机，被ASML公司宣称为芯片制造商参与人工智能热潮的“必备品”。该系统已获得英特尔公司的订单，首台机器已于去年年底运抵其位于俄勒冈州的D1X工厂，英特尔计划在2025年年底开
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ASML 首席财务官 Dassen 回击质疑：High-NA EUV 光刻仍是未来最经济选择，相关订单稳步增加
IT之家2月2日消息，ASML首席财务官RogerDassen近日接受了荷兰当地媒体Bits&Chips的采访。在采访中，Dassen回应了分析机构SemiAnalysis的质疑，表示High-NA（高数值孔径）EUV（极紫外光）光刻机仍是未来最经济的选择。SemiAnalysis之前刊发文章，认为High-NA光刻技术将使用更高的曝光剂量，从而明显降低单位时间内的晶圆吞吐量。这就意味着，
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佳能：目标最快今年开始交付低成本纳米压印光刻设备
感谢IT之家网友西窗旧事的线索投递！IT之家1月28日消息，据英国金融时报报道，负责监督新型光刻机开发的佳能高管武石洋明1月27日接受采访称，采用纳米压印技术的佳能光刻设备FPA-1200NZ2C目标今年或明年出货。佳能2023年 10月公布FPA-1200NZ2C纳米压印光刻（NIL）半导体设备。佳能社长御手洗富士夫表示，纳米压印光刻技术的问世，为小型半导体制造商生产先进芯片开辟了一条
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2023 年四季度 ASML 光刻机订单暴增，中国市场成最大贡献者
IT之家1月24日消息，全球半导体产业迎来强势复苏，光刻机巨头ASMLHoldingNV公布，第四季度订单激增250%，从第三季度的26亿欧元暴涨至91.9亿欧元（IT之家备注：当前约715.9亿元人民币），远超分析师平均预测的36亿欧元，创下历史新纪录，主要受其最先进设备需求激增的推动。作为唯一一家生产尖端芯片制造设备的企业，ASML的订单是衡量整个半导体行业健康状况的风向标。此次创纪录的订单，
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光刻机巨头 ASML 2023 年总营收 275.59 亿欧元，同比增长 30%
IT之家1月24日消息，光刻机巨头 ASML今日公布了2023年第四季度和全年业绩：2023年第四季度净销售收入72.37亿欧元（IT之家备注：当前约563.76亿元人民币），预期69.3亿欧元，毛利率51.4%，净利润20.48亿欧元（当前约159.54亿元人民币）；第四季度净预订额为92亿欧元（当前约716.68亿元人民币），其中EUV光刻胶预订额为56亿欧元（当前约436.24亿元
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英特尔率先拥抱 High-NA EUV 光刻机，台积电持观望态度
IT之家1月7日消息，芯片巨头英特尔近日喜获业内首台具有0.55数值孔径（High-NA）的ASML极紫外（EUV）光刻机，将助力其在未来几年实现更先进的芯片制程。与之形成鲜明对比的是，另一巨头台积电则按兵不动，似乎并不急于加入这场下一代光刻技术的竞赛。业内分析师预计，台积电可能要到2030年甚至更晚才会采用这项技术。英特尔此次获得的High-NAEUV光刻机将首先用于学习和掌握这项技术，预计在未
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消息称 ASML 明年推出用于 2nm 芯片制造的高 NA 光刻机，英特尔已采购 6 台
IT之家12月19日消息，SamMobile消息称，ASML将于未来几个月内推出用于2nm制程节点的芯片制造设备，将数值孔径（NA）光学性能从0.33提高到0.55，而三星计划在2025年底开始生产2nm芯片。据称，ASML明年规划产能仅有10台，而英特尔已经预订了其中6台，不过ASML计划在未来几年内将此设备产能提高到每年20台。目前，ASML官网列出的EUV光刻机仅有两款——NXE:3600D
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