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• 长春光机所 1.5 米扫描干涉场曝光系统顺利通过验收

  IT之家9月4日消息 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所官方发布， 8月24-25日，国家自然科学基金委员会信息学部在长春组织专家对国家自然科学基金国家重大科研仪器设备研制专项“1.5米扫描干涉场曝光系统”进行了项目验收。专家组认为，项目组全面完成了项目的研制任务，成功研制出1.5米扫描干涉场曝光系统，该仪器的各项工作性能均达到或超过了任务书指标；项目管理文件和技术文档记录

  Echo 2020.09.04 00:20 582浏览 0回复

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• 国产的SP光刻机到底牛在哪儿？

  最近“我国成功研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备”的新闻刷屏了。有些人欢欣鼓舞，有些人不屑一顾。那么这个装备到底实力如何，牛到底牛在哪儿？先回答大家最关心的两个问题：1、我们可以实现芯片彻底国产化了吗？答：暂时还不行。2、不吹不黑，这个装备真的这么厉害吗，还是只是吹牛？答：确实很厉害。很多人只盯着新闻里22nm这个指标，其实大家要关注的是“365nm的光源，单次曝光线宽可达22nm”。注......

  Echo 2018.12.02 20:13 503浏览 0回复

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• 可加工22纳米芯片！我国“超分辨光刻装备项目”通过验收

  IT之家11月29日消息 据新华社29日消息，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。据悉，该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。总所周知，我国在光刻机等领域长期落后，此次通过验收的“表面等离子体超分辨光刻装备”拥有完全自主知识产权，打破了国外在高端光刻装备领域的垄断，也为纳米光学加工......

  Echo 2018.11.29 21:30 610浏览 0回复

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