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• 1纳米可期！ASML研发第二代EUV光刻机

  半导体制造过程中最复杂也是最难的步骤就是光刻，光刻机也因此成为最重要的半导体制造设备。在7nm制程的较量中，台积电之所以能够领先，一个很重要的原因就是EUV技术，在半导体制造的工艺中，这部分的成本就能占到33%左右。目前最先进的光刻机就是来自这家ASML公司生产的EUV光刻机，每台售价超过1亿美元，而且供不应求。ASML的主要客户为全球一线的晶圆厂，除了英特尔、三星和台积电这三大巨头之外，国内的中......

  Echo 2019.07.04 11:03 537浏览 0回复

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