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可减少昂贵 EUV 光刻使用，德国默克称 DSA 自组装技术十年内商用
IT之家2月5日消息，德国默克公司高级副总裁AnandNambier近日在新闻发布会上称，未来十年DSA自组装技术将实现商用化，可减少昂贵的EUV图案化次数，成为现有光刻技术的重要补充。IT之家注：DSA全称为Directedself-assembly，其利用嵌段共聚物的表面特征实现周期性图案的自动构造，在此基础上加以诱导，最终形成方向可控的所需图案。一般认为，DSA不适合作为一项独立的图案化技术
阅读更多Echo 2024.02.05 10:24 102浏览 0回复
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1c 纳米世代内存竞争：三星计划增加 EUV 使用，美光将引入钼、钌材料
IT之家2月3日消息，根据韩媒TheElec的报道，DRAM内存巨头三星和美光均将在下一个内存世代，也就是1cnm工艺引入更多新技术。IT之家注：1cnm世代即第六个10+nm世代，美光也称之为1γnm工艺。目前最先进的内存为1bnm世代，三星称其1bnm为12nm级工艺。分析机构TechInsights高级副总裁ChoiJeong-dong在近日的一场研讨会上表示，美光将在1cnm节点率先引入钼
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韩国 ESOL 今年将展示第二代 EUV 原型设备
IT之家2月11日消息，据TheElec报道，韩国EUV设备制造商ESOL首席执行官KimByung-gook在接受采访时表示，今年将推出其第二代EUV（极紫外）设备原型。KimByung-gook说，该公司去年获得了350亿韩元（当前约1.88亿元人民币）的资金，其中大部分将用于研发。到目前为止，ESOL已经在其第一代产品线中推出了四款产品。其中，EUV掩模检查设备和EUV薄膜透光率检测机已经产
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美光 CEO：中国台湾工厂今年将导入 EUV
集微网消息，美光总裁暨CEO梅罗特拉（SanjayMehrotra）今日表示，台中厂今年将导入EUV。据台媒报道，梅罗特拉指出，中国台湾拥有世界上最先进的逻辑和DRAM半导体技术，美光在中国台湾创建DRAM卓越制造中心，是先进的半导体制造生态系统，并部署由人工智能自动化驱动的智能制造系统，有助于生产运营和高质量。ICInsights的报告显示，美光在2021年是第三大DRAM供应商，DRAM销售额
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Counterpoint：高数值孔径 EUV 系统将成 ASML 增长新突破口
Counterpoint发布的最新报告显示，由于5G、物联网、云计算、高性能计算、汽车芯片和其他领域的需求增加，预计到2030年半导体行业收入将达到1万亿美元左右。随着技术节点缩小，DUV（深紫外）和EUV（极紫外）光刻系统被广泛用于硅晶圆制作。报告指出，ASML是先进光刻系统和设备的领导者。凭借对先进EUV技术和基于高价值的服务模式（包括生产力和性能升级）大量投资，ASML有望超越其长期发展预测
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韩国公司开发首款 EUV 光刻胶通过三星可靠性测试：打破完全依赖海外供应商的局面
韩国光刻胶供应商东进世美肯(DongjinSemichem)表示，近日通过了三星电子的EUV光刻胶可靠性测试（合格）。这款光刻胶为双方合作研发，打破韩国EUV光刻胶完全依赖海外供应商的局面，最快有望明年上半年向产线批量供应。据ETNews报道，业内人士表示，“东进世美肯在其位于京畿道的华城工厂开发了EUV光刻胶，并在三星电子的华城EUV生产线进行了测试，最终获得了资格。”并补充道：“两家公司的合作
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中科院微电子所在“极紫外 EUV 光刻基板缺陷补偿”方面取得新进展
近日，中国科学院微电子研究所集成电路先导工艺研发中心在极紫外光刻基板缺陷补偿方面取得进展。中国科学院消息显示，微电子所研究员韦亚一课题组与北京理工大学教授马旭课题组合作，提出了一种基于遗传算法的改进型掩模吸收层图形的优化算法。据介绍，该算法采用基于光刻图像归一化对数斜率和图形边缘误差为基础的评价函数，采用自适应编码和逐次逼近的修正策略，获得了更高的修正效率和补偿精度。算法的有效应性通过对比不同掩模
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EUV 光刻的“致命弱点”
几家供应商正在推出下一代检测系统和软件，以定位极紫外（EUV）光刻机工艺引起的芯片缺陷问题。每种缺陷检测技术都涉及到各种权衡，但由于EUV引起的随机缺陷最终会影响芯片的性能，在晶圆厂里使用一项或多项检测技术是非常必要的。EUV光刻用于晶圆厂的芯片生产，它使用一个巨大的扫描仪在高级节点上对芯片的微小特征进行图案化，在操作中，EUV的扫描仪产生光子，最终与晶圆上的光敏材料光刻胶相互作用，以形成精确的特
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ASML 将于今年推出透光率超 90% 的 EUV 防护膜，提高光刻机效率
IT之家5月15日消息 目前最前沿的手机、电脑芯片多使用EUV极紫外光进行刻蚀，但是这种光线难以被反射和折射，制造过程中损耗率非常大。根据外媒TheElec消息，ASML将于今年开始为光刻机提供新型EUV防护膜，透光率可达90.6%，目前即将开始生产。外媒表示，此种防护膜主要用于安装在EUV光路和晶圆制造空间之间，用于防尘。此前的防护膜透光率仅有78%，然而一片的价格高达26000美元（
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SK 海力士 M16 新厂竣工，将首次使用 EUV 光刻机生产
存储芯片厂商SK海力士2月1日宣布，其公司位于韩国首尔南部利川市的M16新厂已经竣工，SK海力士将首次使用极紫外辐射（EUV）光刻机在生产存储芯片。SK海力士经过两年的时间，花费了3.5万亿韩元（约合31亿美元）建成了这座芯片工厂，工厂长336米，宽163米，高105米，相当于一座37层公寓的高度，是SK海力士目前最大的芯片工厂。SK集团董事长崔泰源在颁奖典礼上称，建造新工厂的决定在两年前是十分大
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国内光刻机之殇：入华 32 年 ASML 出货 700 多台，但 EUV 被美国盯死，1.2 亿美元也难买
中国需要光刻机，尤其是支持先进制程的高端光刻机。具体来说，就是EUV（极紫外光源）光刻机。目前，世界上能够制造EUV光刻机的，只有一家公司，它就是荷兰光刻机巨头ASML（中文名为阿斯麦）。实际上，作为一家外企，ASML进入到中国市场已经超过30年，可以说是渊源深厚。但是，由于商业之外的原因，ASML无法向中国市场出口EUV光刻机，尽管它自己其实是非常乐意的。背后的始作俑者，还是美国。1ASML与中
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消息称台积电斥资 440 亿元采购 EUV 光刻机，官方回应：不评论传闻
IT之家10月1日消息 此前据台媒DigiTimes报道，台积电加速先进制程推进，近期扩大释单，累计EUV机台至2021年底将超过50台。报道指出，相较之下，三星电子2021年还不到25台，同时EUVPOD（光罩传送盒）采购量远低于预期。据财联社报道，台积电方面对此回复称：公司不评论市场传闻。据了解，一台EUV光刻机售价近8亿元，55台EUV光刻机价值约440亿元。IT之家了解到，台积电
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报告：台积电 EUV 光刻机安装数量占行业一半，晶圆产量达 60%
IT之家8月30日消息 台积电最近举行了年度技术研讨会，在会上透露了大量关于公司的信息，尤其是涉及到未来芯片制造业务的信息。这些信息包括关于台积电先进工艺节点的新细节，比如N5、N4、N3和N12e。此外，台积电也透露了其在尖端制造实力方面的情况。台积电现在占据了业界EUV（极紫外光）设备安装量的50%。此外，台积电还拥有约60%的EUV晶圆累计产量。台积电的N7+制程是该公司第一个利用
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三星宣布推出业界首款EUV DRAM，首批交付100万个
IT之家3月25日消息 三星电子（SamsungElectronics）今天宣布，已经出货100万业界首款10nmEUV级（D1x）DDR4DRAM模组。新的基于EUV的DRAM模块已经完成了全球客户评估，并将为在高端PC、移动终端、企业级服务器等等应用领域开启新大门。IT之家了解到，三星是第一个在DRAM生产中采用EUV来克服DRAM扩展方面的挑战的厂商。得益于EUV技术，可以在精度更......
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三星6nm、7nm EUV生产线正式开始量产
IT之家2月20日消息 今天晚间，三星宣布其位于韩国华城的V1工厂已开始批量生产基于EUV（极紫外）光刻工艺的6nm和7nm芯片。根据三星的计划，到2020年底，V1生产线的累计总投资将达到60亿美元，预计7nm及以下工艺节点的总产能将比2019年增长三倍，目前的计划是在第一季度开始交付其基于6nm和7nm的移动芯片。据IT之家了解，V1生产线于2018年2月破土动工，并于2019年下半......
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中芯国际声明：韩媒发布涉EUV不实报道，强烈谴责
IT之家12月10日消息近日，有韩国媒体报道称中芯国际董事长周子学日前在韩国访问时表示已经解决了与ASML之间就光刻机供应存在的问题，现在中芯国际发布了声明，称韩媒发布了涉EUV不实报道，强烈谴责。中芯国际官方声明：近日，《BusinessKorea》等韩国媒体发布报道，“引用”中芯国际董事长周子学博士在韩国参会时对EUV（极紫外光刻机）事宜的表态。中芯国际对此郑重声明，此类报道违背事实，纯属捏造......
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